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我依然的笑

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻时遇到的问题

1 光刻掩膜版如何清洗,用丙酮超声可不可以?
2 负胶在曝光之后如何去掉,用专门的剥离液去胶效果并不是特别好
3 大家选用的正胶与负胶是哪一种,具体怎么使用,曝光与前烘后烘都用了多长时间
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心如

新虫 (初入文坛)

1。可以  小心就行。我们一般是丙酮擦洗  乙醇擦洗。若还有污渍,就硫酸+双氧水煮一下吧,这样下来一半都感觉了。2,不太清楚你的工艺。3,正胶:苏州瑞红产的3038,具体那个型号还真没仔细看!前烘120°15分钟,坚膜100°15分钟。负胶 北京微电子什么公司的   前烘80°    坚膜100°

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2楼2018-01-30 23:37:14
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我依然的笑

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 心如 at 2018-01-30 23:37:14
1。可以  小心就行。我们一般是丙酮擦洗  乙醇擦洗。若还有污渍,就硫酸+双氧水煮一下吧,这样下来一半都感觉了。2,不太清楚你的工艺。3,正胶:苏州瑞红产的3038,具体那个型号还真没仔细看!前烘120°15分钟,坚 ...

谢谢指导

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3楼2018-01-31 09:26:48
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心如

新虫 (初入文坛)

纠正一下:正胶苏州瑞红rzj-304  显影液rzx-3038;负胶是北京科华微电子的。

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4楼2018-01-31 22:26:11
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心如

新虫 (初入文坛)

那你们一般用的什么胶?大家交流一下。

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5楼2018-01-31 22:27:17
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