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我依然的笑新虫 (初入文坛)
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光刻时遇到的问题
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1 光刻掩膜版如何清洗，用丙酮超声可不可以？ 2 负胶在曝光之后如何去掉，用专门的剥离液去胶效果并不是特别好 3 大家选用的正胶与负胶是哪一种，具体怎么使用，曝光与前烘后烘都用了多长时间 |
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我依然的笑
新虫 (初入文坛)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 493.1
- 散金: 5
- 帖子: 34
- 在线: 8.4小时
- 虫号: 7303585
- 注册: 2017-10-15
- 专业: 凝聚态物性 II ：电子结构
3楼2018-01-31 09:26:48
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1。可以 小心就行。我们一般是丙酮擦洗 乙醇擦洗。若还有污渍，就硫酸＋双氧水煮一下吧，这样下来一半都感觉了。2，不太清楚你的工艺。3，正胶：苏州瑞红产的3038，具体那个型号还真没仔细看！前烘120°15分钟，坚膜100°15分钟。负胶 北京微电子什么公司的 前烘80° 坚膜100° 发自小木虫IOS客户端 |
2楼2018-01-30 23:37:14
4楼2018-01-31 22:26:11
5楼2018-01-31 22:27:17
5