| 查看: 1212 | 回复: 4 | |||
我依然的笑新虫 (初入文坛)
|
[求助]
光刻时遇到的问题
|
|
1 光刻掩膜版如何清洗，用丙酮超声可不可以？ 2 负胶在曝光之后如何去掉，用专门的剥离液去胶效果并不是特别好 3 大家选用的正胶与负胶是哪一种，具体怎么使用，曝光与前烘后烘都用了多长时间 |
回复此楼» 猜你喜欢
济南大学国家优青课题组 2026 调剂招生来啦
已经有0人回复
-
武汉纺织大学_化学院官方调剂群-院士团队招生-学生自由度高发展好-欢迎各位同学
已经有0人回复
-
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有278人回复
-
西华大学 化学 调剂有名额
已经有0人回复
-
上海应用技术大学招生调剂研究生
已经有8人回复
-
南京晓庄学院绿色能源材料团队招生
已经有0人回复
-
南京晓庄学院绿色能源材料团队招生
已经有0人回复
-
北方工业大学储能技术-02电化学储能与氢能方向招收2026级二次调剂学生
已经有0人回复
-
求助WO3.cif文件 对应PDF卡片 43-1035，单斜晶系 , P21/n 。
已经有2人回复
|
1。可以 小心就行。我们一般是丙酮擦洗 乙醇擦洗。若还有污渍，就硫酸＋双氧水煮一下吧，这样下来一半都感觉了。2，不太清楚你的工艺。3，正胶：苏州瑞红产的3038，具体那个型号还真没仔细看！前烘120°15分钟，坚膜100°15分钟。负胶 北京微电子什么公司的 前烘80° 坚膜100° 发自小木虫IOS客户端 |
2楼2018-01-30 23:37:14
我依然的笑
新虫 (初入文坛)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 493.1
- 散金: 5
- 帖子: 34
- 在线: 8.4小时
- 虫号: 7303585
- 注册: 2017-10-15
- 专业: 凝聚态物性 II ：电子结构
3楼2018-01-31 09:26:48
4楼2018-01-31 22:26:11
5楼2018-01-31 22:27:17
