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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 射频溅射NiO薄膜速率太慢，可不可以分次生长较厚薄膜
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conpepapro

新虫 (小有名气)

[交流] 射频溅射NiO薄膜速率太慢，可不可以分次生长较厚薄膜 已有3人参与

射频溅射NiO薄膜，30min只生长了9nm，但是射频溅射不适合过长的时间，可不可以长30分钟挺10钟再长30分钟。这样薄膜的均匀性会有影响吗？

另外，同样的功率气压的条件下，只是换了一次靶，速率降到只有原来的三分之一，唯一的区别就是靶材多裂了一小块。

请问下谁能帮忙解决上面的两个问题，谢谢啦！

[ Last edited by conpepapro on 2017-11-23 at 10:00 ]
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磁控溅射镀膜工艺

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1楼 2017-11-23 09:30:54
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091820053

禁虫 (知名作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
本帖内容被屏蔽
3楼2018-01-19 19:58:08
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野人禾禾

金虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
你需要更详细的说明下工艺，才能判断你的问题。

1. 靶材采用的是金属靶Ni，还是陶瓷靶？
2. 工艺条件是什么样的？多少功率，多少气氛，多少气压？有无加温？靶材尺寸等
3. 你的问题只有一个呀？你问均匀性，那回答就是 均匀性影响不大，如果要求性能，最好每次都注意预溅射。
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擅长薄膜材料工艺，欢迎交流captain0119
2楼2017-11-24 18:01:21
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晚街听雨

新虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
3楼: Originally posted by 091820053 at 2018-01-19 19:58:08
你好，我们这边也能做镀膜，加一下呢

你好  我也是做薄膜的
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学习者
4楼2018-05-15 20:55:42
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晚街听雨

新虫 (小有名气)
想问一下楼主，你们做NiO薄膜的电性的时候用什么做电极啊
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学习者
5楼2018-05-15 20:56:13
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