| 查看: 925 | 回复: 5 | ||||
conpepapro新虫 (小有名气)
|
[交流]
射频溅射NiO薄膜速率太慢，可不可以分次生长较厚薄膜 已有3人参与
|
|
射频溅射NiO薄膜，30min只生长了9nm，但是射频溅射不适合过长的时间，可不可以长30分钟挺10钟再长30分钟。这样薄膜的均匀性会有影响吗？ 另外，同样的功率气压的条件下，只是换了一次靶，速率降到只有原来的三分之一，唯一的区别就是靶材多裂了一小块。 请问下谁能帮忙解决上面的两个问题，谢谢啦！ [ Last edited by conpepapro on 2017-11-23 at 10:00 ] |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 磁控溅射镀膜工艺 |
» 猜你喜欢
上海工程技术大学【激光智能制造】课题组招收硕士
已经有6人回复
-
带资进组求博导收留
已经有11人回复
-
自荐读博
已经有5人回复
-
求个博导看看
已经有16人回复
-
上海工程技术大学张培磊教授团队招收博士生
已经有4人回复
-
求助院士们，这个如何合成呀
已经有4人回复
-
临港实验室与上科大联培博士招生1名
已经有9人回复
-
写了一篇“相变储能技术在冷库中应用”的论文，论文内容以实验为主，投什么期刊合适？
已经有6人回复
-
最近几年招的学生写论文不引自己组发的文章
已经有11人回复
-
中科院杭州医学所招收博士生一名（生物分析化学、药物递送）
已经有3人回复
2楼2017-11-24 18:01:21
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
|
本帖内容被屏蔽 |
3楼2018-01-19 19:58:08
4楼2018-05-15 20:55:42
5楼2018-05-15 20:56:13
6楼2018-05-15 20:56:42