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conpepapro新虫 (小有名气)
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[交流]
射频溅射NiO薄膜速率太慢，可不可以分次生长较厚薄膜 已有3人参与
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射频溅射NiO薄膜，30min只生长了9nm，但是射频溅射不适合过长的时间，可不可以长30分钟挺10钟再长30分钟。这样薄膜的均匀性会有影响吗？ 另外，同样的功率气压的条件下，只是换了一次靶，速率降到只有原来的三分之一，唯一的区别就是靶材多裂了一小块。 请问下谁能帮忙解决上面的两个问题，谢谢啦！ [ Last edited by conpepapro on 2017-11-23 at 10:00 ] |
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 磁控溅射镀膜工艺 |
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2楼2017-11-24 18:01:21
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