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conpepapro新虫 (小有名气)
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[交流]
射频溅射NiO薄膜速率太慢,可不可以分次生长较厚薄膜 已有3人参与
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射频溅射NiO薄膜,30min只生长了9nm,但是射频溅射不适合过长的时间,可不可以长30分钟挺10钟再长30分钟。这样薄膜的均匀性会有影响吗? 另外,同样的功率气压的条件下,只是换了一次靶,速率降到只有原来的三分之一,唯一的区别就是靶材多裂了一小块。 请问下谁能帮忙解决上面的两个问题,谢谢啦! [ Last edited by conpepapro on 2017-11-23 at 10:00 ] |
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磁控溅射镀膜工艺 |
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2楼2017-11-24 18:01:21
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
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3楼2018-01-19 19:58:08

4楼2018-05-15 20:55:42

5楼2018-05-15 20:56:13

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