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[求助]
【求助磁控溅射制备的DLC的最高SP3含量是多少】+【有效期至2009年2月20日】
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各位虫友，大家好！ 向大家请教问题： 利用各种磁控溅射方法制备的DLC薄膜的最高的SP3含量是多少？ 1. 直流磁控溅射 2. 射频磁控溅射 3. 非平衡磁控溅射 4. ---------等等 每回答一个问题酌情赠送金币，至少50金币！但需要给出论文出处，非常感谢大家！ |
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liuhaifeng7758
木虫 (正式写手)
金玉其中
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 2268.9
- 散金: 935
- 红花: 2
- 帖子: 352
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- 虫号: 582798
- 注册: 2008-07-25
- 性别: GG
- 专业: 其他无机非金属材料
16楼2009-03-15 22:06:49
2楼2009-02-10 17:29:54
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guobaogang(金币+30,VIP+0):非常感谢您的帮助！！ 2-12 10:23
guobaogang(金币+30,VIP+0):非常感谢您的帮助！！ 2-12 10:23
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DC sputtering RF sputtering 20-50% magnetron sputtering ion beam sputtering plasma assisted physical vapour deposition plasma assisted chemical vapour deposition ion beam deposition fast atomic beam bombardment (FAB) technique carbon arc evaporation laser evaporation (VHF PECVD) techniquea Dense Plasma Focussing (DPF) . 以上是包括了溅射和沉淀、聚焦、蒸发等多种做DLF的方法。 多数都用RAMAN光谱 ID/IG表示SP2：SP3的ratio, 反过来就是sp3 content 为了maximise sp3 content，以下文献中提到了多种方法，通过改变各种实验条件实现。比如ion energy大小，temperature, coating group, metal content, carbon content, hydrogen content等。 Molecular-dynamics simulation of the growth of diamondlike films by energetic carbon-atom beams 射频、直流磁控溅射和多弧离子镀沉积类金刚石薄膜的拉曼光谱分析 这篇文章 ID/IG 射频磁控溅射 0. 832 直流磁控溅射 0. 707 多弧离子镀 0. 386 Deposition of Diamond-like Carbon films using Dense Plasma Focus 这篇文章里，说用DPF系统做DLF，RAMAN光谱测定sp3/sp2的content最高可达22%。这是2008年新的文章。 Molecular-dynamics simulation of the growth of diamondlike films by energetic carbon-atom beams这篇文章推荐楼主看，但是我们学校下不到。 |
5楼2009-02-10 21:45:33
6楼2009-02-10 21:50:12