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霸天一梦新虫 (初入文坛)
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TiN薄膜用磁控溅射怎么镀不上？ 已有2人参与
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反应溅射压强1.0pa.镀不上，不知道怎么回事？更小的话没法减了。还有Ar2和N2气比例到底多少合适，求助各位大神们！！？ 发自小木虫Android客户端 |
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peterflyer 
木虫之王 (文学泰斗)
peterflyer
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7楼2017-08-05 00:03:40
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2楼2017-08-04 19:57:01
peterflyer
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【答案】应助回帖
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是根本起不了弧还是薄膜附着性差？若是前者估计得调整靶材与基板的间距了；若是后者的话，估计一是真空度太低了，有文献称要先将真空抽到10^(-5)Pa，然后再通高纯氩和氮气，另外可能还需要处理一下基板，强化氮化钛颗粒对基板的附着能力。 对于Ar2和N2气比例到底多少合适，可以参考下面的文献：http://www.docin.com/p-1237547996.html 。 |
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3楼2017-08-04 21:33:33
霸天一梦
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文献对应没有文章怎么回事，反应溅射的压强我看文献里有成功的，但是实验复述不出来，功率按文献功率200到250w.是不是功率低，镀其他膜的时候也没有这么难镀，就这个膜难住了，始终镀不上，很无奈，望大神帮忙解决下！非常感谢！！ 发自小木虫Android客户端 |
4楼2017-08-04 23:16:32