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单晶硅片处理请教!
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求教单晶硅片表面处理方法,按照文献报道的方法在浓硫酸和双氧水中90度煮了半小时,但是干燥后发现表面看起来非常不光洁,有类似水印的痕迹,请问这是怎么回事? [ Last edited by zzgyb on 2009-2-16 at 10:23 ] |
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zhangwj
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