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island135

铜虫 (小有名气)

[交流] 单晶硅片处理请教!

求教单晶硅片表面处理方法,按照文献报道的方法在浓硫酸和双氧水中90度煮了半小时,但是干燥后发现表面看起来非常不光洁,有类似水印的痕迹,请问这是怎么回事?

[ Last edited by zzgyb on 2009-2-16 at 10:23 ]

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zhangwj

荣誉版主 (职业作家)

小木虫无限续航核潜艇

★ ★ ★ ★ ★
island135(金币+5):谢谢 1-29 23:45
引用回帖:
Originally posted by island135 at 2009-1-29 22:04:
求教单晶硅片表面处理方法,按照文献报道的方法在浓硫酸和双氧水中90度煮了半小时,但是干燥后发现表面看起来非常不光洁,有类似水印的痕迹,请问这是怎么回事?

用氮气吹干,怎么会有呢?不要使用干燥箱!
谢谢支持材料区@小木虫论坛
4楼2009-01-29 23:36:44
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支持!!!!!!!!!!!
2楼2009-01-29 22:09:43
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