| 查看: 425 | 回复: 3 | |||
| 当前主题已经存档。 | |||
[交流]
单晶硅片处理请教！
|
|||
|
求教单晶硅片表面处理方法，按照文献报道的方法在浓硫酸和双氧水中90度煮了半小时，但是干燥后发现表面看起来非常不光洁，有类似水印的痕迹，请问这是怎么回事？ [ Last edited by zzgyb on 2009-2-16 at 10:23 ] |
回复此楼» 猜你喜欢
现代”学阀”该如何界定
已经有14人回复
-
求合成方法
已经有8人回复
-
师弟论文见刊大半年才想起来申请专利，还能抢救一下吗？
已经有4人回复
-
上海工程技术大学 激光智能制造课题组 2027级博士研究生招生
已经有5人回复
-
课题组招2027级博士 上海工程技术大学 激光智能制造方向
已经有5人回复
-
有机合成以后会不会被AI改变？做科研的虫友怎么看
已经有8人回复
-
我的奶奶
已经有3人回复
| 支持！！！！！！！！！！！ |
2楼2009-01-29 22:09:43
181805776
铁虫 (正式写手)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 43
- 散金: 131
- 帖子: 685
- 在线: 43.6小时
- 虫号: 612992
- 注册: 2008-09-26
- 性别: GG
- 专业: 药物化学
3楼2009-01-29 22:20:39
zhangwj
荣誉版主 (职业作家)
小木虫无限续航核潜艇
- 应助: 1 (幼儿园)
- 贵宾: 9.498
- 金币: 11573.7
- 散金: 13321
- 红花: 43
- 沙发: 23
- 帖子: 4332
- 在线: 1139.4小时
- 虫号: 171365
- 注册: 2006-01-18
- 性别: GG
- 专业: 其他无机非金属材料
- 管辖: 生物材料
4楼2009-01-29 23:36:44