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单晶硅片处理请教！
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求教单晶硅片表面处理方法，按照文献报道的方法在浓硫酸和双氧水中90度煮了半小时，但是干燥后发现表面看起来非常不光洁，有类似水印的痕迹，请问这是怎么回事？ [ Last edited by zzgyb on 2009-2-16 at 10:23 ] |
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2楼2009-01-29 22:09:43
181805776
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3楼2009-01-29 22:20:39
zhangwj
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4楼2009-01-29 23:36:44
