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SiO2包覆后如何去除体系中的纯SiO2粒子?
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jingjing826
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SiO2包覆后如何去除体系中的纯SiO2粒子?
已有3人参与
金属氧化物在以TEOS为前驱体下用Stober法包覆后出现如图中大量的小SiO2粒子,请问该如何彻底除去体系中的纯SiO2粒子?
谢谢大家!
20170508-4_956_mag_ 20000x_hv_ 20 kv_se - kopie_副本.jpg
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1楼
2017-06-30 09:29:27
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我最近在做二氧化硅包裹金纳米棒,效果不均匀,你的还挺均匀的,请问,是怎么包裹的
发自小木虫Android客户端
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10楼
2017-10-28 23:27:18
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认真呢是
铁虫
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jingjing826: 金币+2,
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有帮助, 嗯,但是我的物质和酸碱都反应。。这招不太好使
2017-07-01 10:09:19
应该是用HF或者强碱处理吧?之前看到过
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2楼
2017-06-30 14:46:26
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jinchangzi
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jingjing826: 金币+8,
★★★
很有帮助
2017-07-01 10:08:11
你应该优化合成工艺,得到高效包覆的材料,尽量减少游离的SiO2的生成,这种情况一般是降低硅源的用量,这叫从根源上解决问题,像你目前的情况,如果核材料是磁性的还好办,不然的话要靠梯度离心进行分离,效果也不会太好。
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3楼
2017-06-30 16:00:36
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jingjing826
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3楼
:
Originally posted by
jinchangzi
at 2017-06-30 16:00:36
你应该优化合成工艺,得到高效包覆的材料,尽量减少游离的SiO2的生成,这种情况一般是降低硅源的用量,这叫从根源上解决问题,像你目前的情况,如果核材料是磁性的还好办,不然的话要靠梯度离心进行分离,效果也不会 ...
请问做SiO2包覆时,需要注意哪些?比如醇水比例,氨水用量,搅拌速度改如何控制?
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4楼
2017-07-01 10:08:48
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