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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » SiO2包覆后如何去除体系中的纯SiO2粒子？
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jingjing826

木虫 (正式写手)

[求助] SiO2包覆后如何去除体系中的纯SiO2粒子？ 已有3人参与

金属氧化物在以TEOS为前驱体下用Stober法包覆后出现如图中大量的小SiO2粒子，请问该如何彻底除去体系中的纯SiO2粒子？
谢谢大家！

SiO2包覆后如何去除体系中的纯SiO2粒子？
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1楼 2017-06-30 09:29:27
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jinchangzi

至尊木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
jingjing826: 金币+8, ★★★很有帮助 2017-07-01 10:08:11
你应该优化合成工艺，得到高效包覆的材料，尽量减少游离的SiO2的生成，这种情况一般是降低硅源的用量，这叫从根源上解决问题，像你目前的情况，如果核材料是磁性的还好办，不然的话要靠梯度离心进行分离，效果也不会太好。
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3楼2017-06-30 16:00:36
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jinchangzi

至尊木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
jingjing826: 金币+5, ★★★很有帮助 2017-07-05 08:15:36
引用回帖:
4楼: Originally posted by jingjing826 at 2017-07-01 10:08:48
请问做SiO2包覆时，需要注意哪些？比如醇水比例，氨水用量，搅拌速度改如何控制？...

这几点不是关键的影响因素，被包覆物质的分散性以及浓度，与硅源的亲和性，硅源自身的浓度，这些才是关键的

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6楼2017-07-01 17:23:04
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普通回帖

认真呢是

铁虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
jingjing826: 金币+2, ★有帮助, 嗯，但是我的物质和酸碱都反应。。这招不太好使 2017-07-01 10:09:19
应该是用HF或者强碱处理吧？之前看到过
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2楼2017-06-30 14:46:26
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jingjing826

木虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by jinchangzi at 2017-06-30 16:00:36
你应该优化合成工艺，得到高效包覆的材料，尽量减少游离的SiO2的生成，这种情况一般是降低硅源的用量，这叫从根源上解决问题，像你目前的情况，如果核材料是磁性的还好办，不然的话要靠梯度离心进行分离，效果也不会 ...

请问做SiO2包覆时，需要注意哪些？比如醇水比例，氨水用量，搅拌速度改如何控制？
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4楼2017-07-01 10:08:48
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凤妹6月


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5楼2017-07-01 10:40:27
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古雨月林

木虫 (著名写手)
请教下是用什么方法包覆得这么均匀啊

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7楼2017-07-01 22:21:17
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Super蜗牛！

铜虫 (小有名气)
同问，什么条件下包覆均匀
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8楼2017-10-27 22:35:53
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小邓学习

银虫 (著名写手)
你这是包裹的什么东西，搞得好像透镜图呀

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9楼2017-10-28 13:47:18
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FFF503

新虫 (小有名气)
我最近在做二氧化硅包裹金纳米棒，效果不均匀，你的还挺均匀的，请问，是怎么包裹的

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10楼2017-10-28 23:27:18
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