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jingjing826木虫 (正式写手)
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SiO2包覆后如何去除体系中的纯SiO2粒子？ 已有3人参与
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金属氧化物在以TEOS为前驱体下用Stober法包覆后出现如图中大量的小SiO2粒子，请问该如何彻底除去体系中的纯SiO2粒子？ 谢谢大家！  20170508-4_956_mag_ 20000x_hv_ 20 kv_se - kopie_副本.jpg |
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3楼2017-06-30 16:00:36
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【答案】应助回帖
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jingjing826: 金币+5, ★★★很有帮助 2017-07-05 08:15:36
jingjing826: 金币+5, ★★★很有帮助 2017-07-05 08:15:36
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这几点不是关键的影响因素，被包覆物质的分散性以及浓度，与硅源的亲和性，硅源自身的浓度，这些才是关键的 发自小木虫Android客户端 |
6楼2017-07-01 17:23:04
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jingjing826
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