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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » PVD如何提高Cu/Cr膜层结合力
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LAnza_lw

银虫 (小有名气)

[求助] PVD如何提高Cu/Cr膜层结合力 已有2人参与

各位前辈，你们好。在最近的一次中频磁控溅射镀膜中，我遇到以下问题：膜层为基片/Cr/Cu/F/F，在镀Cr/Cu时，温度50-60℃，没有开偏压，测试的时候发现Cr/Cu之间的结合力很差，查资料知道是因为线热膨胀系数相差较大导致的，请问不改变低温成膜前提条件下，还有没有其他方法提高两者之间的结合力，谢谢。（PS：明天会测试下开偏压的影响）
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PVD，磁控溅射，金属镀膜，研发工程师
1楼 2017-06-23 20:01:07
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m452193160

新虫 (小有名气)
功率气压

发自小木虫Android客户端
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2楼2017-06-23 20:46:52
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
Cr和Cu之间能否添加一层热胀系数居间的过渡的膜如Ni或Ti呢？
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3楼2017-06-23 20:48:14
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LAnza_lw

银虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by peterflyer at 2017-06-23 20:48:14
Cr和Cu之间能否添加一层热胀系数居间的过渡的膜如Ni或Ti呢？

膜层有限制不能添加中间层，只能按着这个顺序，做测试的时候拿胶带一粘，就看到Cu基
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PVD，磁控溅射，金属镀膜，研发工程师
4楼2017-06-24 08:07:38
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aaron5235

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
LAnza_lw: 金币+5, ★有帮助 2017-07-18 18:20:42
什么基片呢，我曾经用Cr改善Cu和Si之间的结合，效果还不错。
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人生在世，俯仰之间，唯有追求卓越，但求尽其所能
5楼2017-07-01 04:55:45
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lbt_xmc

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
4楼: Originally posted by LAnza_lw at 2017-06-24 08:07:38
膜层有限制不能添加中间层，只能按着这个顺序，做测试的时候拿胶带一粘，就看到Cu基...

那看来是物理或者机械结合了。
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6楼2017-07-19 10:28:34
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