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【求助】问个溅射金膜的问题
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大家好，我一直恼于一个问题，我在分析中心做的溅射金膜，溅射了5分钟（I=10mA），样品表面变的好黑，但是对照他们单位给的一个表：10mA下，沉积速率也就是4nm/min，那就是说我的样品上只有20nm厚左右，但是怎么会这么黑呢？还有，他们给别人做SEM时，在这个电流下只做1min,那只有4nm啊，这么薄能好导电吗？？ [ Last edited by 小小虫虫5591 on 2009-1-13 at 20:23 ] |
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