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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 工艺技术 » 学习分享 » PECVD制备氮化硅薄膜
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随心所动

银虫 (小有名气)

[求助] PECVD制备氮化硅薄膜 已有1人参与

各位虫友好：
          刚开始学习PECVD法制备氮化硅薄膜，想请问一下制备时通入的气体除了反应气体SiH4和NH3，还有哪些？
          谢谢！
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随心奔跑，自由是方向
1楼 2017-06-04 09:03:51
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随心所动

银虫 (小有名气)
引用回帖:
8楼: Originally posted by gt134032 at 2017-07-30 22:47:00
您好，请问您有没有测试扫描，我做的氮化硅表面总会有一些颗粒，清理了反应腔体和通气管道但是没有效果，测试颗粒成分为Si和N元素，是要考虑条件不够优化，还是其它污染问题？请问您有没有遇到过相同的问题？谢谢
...

你好，我还没遇到你上面说的问题。是不是因为SiH4和NH3通入量的比例不合适导致的？
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随心奔跑，自由是方向
9楼2017-08-19 09:30:14
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huyingru

禁虫 (正式写手)
本帖内容被屏蔽
2楼2017-06-07 13:49:21
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随心所动

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by huyingru at 2017-06-07 13:49:21
除了这些还要H2和N2

谢谢你。你也做这方面的吗？
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随心奔跑，自由是方向
3楼2017-06-11 21:05:16
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随心所动

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by huyingru at 2017-06-07 13:49:21
除了这些还要H2和N2

你做的氮化硅是用在哪些方面的？
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随心奔跑，自由是方向
4楼2017-06-11 21:55:00
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