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随心所动

银虫 (小有名气)

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[求助] PECVD制备氮化硅薄膜已有1人参与

各位虫友好：
刚开始学习PECVD法制备氮化硅薄膜，想请问一下制备时通入的气体除了反应气体SiH4和NH3，还有哪些？
谢谢！

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随心奔跑，自由是方向

1楼 2017-06-04 09:03:51

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银虫 (小有名气)

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引用回帖:

8楼: Originally posted by gt134032 at 2017-07-30 22:47:00
您好，请问您有没有测试扫描，我做的氮化硅表面总会有一些颗粒，清理了反应腔体和通气管道但是没有效果，测试颗粒成分为Si和N元素，是要考虑条件不够优化，还是其它污染问题？请问您有没有遇到过相同的问题？谢谢
...

你好，我还没遇到你上面说的问题。是不是因为SiH4和NH3通入量的比例不合适导致的？