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apmfly

新虫 (初入文坛)

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虫号: 1473306
注册: 2011-11-02
专业: 半导体材料

[求助] 硅基太阳能电池PECVD减反射钝化膜（氮化硅）中的键含量测试

在许多文献看到用FT-ir测试薄膜中的键浓度，主要是Si-H、N-H，但是测试样品如何制备没有相信说明，用过一次三氯氧磷扩散、PECVD镀膜后的硅片去测的，振动峰很杂，跟文献上完全不同，有大牛解惑下么？
   主要目的：
   1.主要考虑到膜的钝化效果（H对悬挂键、缺陷的钝化），所以想得到H键的浓
      度（%）；
   2.薄膜中有哪些化学键；
   请问：
   1.样品制备的要求（基底硅不能扩散？需要较高的电阻率和厚度？）
   2.达到目的有没有更好的测试方法；
   谢谢大牛为我指导一二。。

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1楼 2013-03-13 10:37:13

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