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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 制备成型 » 【求助】RF磁控溅射氧化物
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wan213

银虫 (初入文坛)

[交流] 【求助】RF磁控溅射氧化物

求助各位大虾，我们实验室用RF磁控溅射法向玻璃基片溅射Bi2O3靶材，总也溅射不上去，玻璃上几乎是透明的。而且溅射完毕后靶材上会出现一层黑色的物质，也不知道是什么。我们的控制条件大约是功率20，反溅射功率0.25，氩气气压5，自偏压20，温度室温到100。不知道哪个条件没控制好，还是黑色膜的问题，望这方面的牛人不吝赐教。。。
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1楼 2009-01-08 09:43:33
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ranon

金虫 (正式写手)
★
洛阳学子(金币+1,VIP+0):多谢交流 5-1 00:18
你的气压5，是5pa,还是5torr. 如果是5pa, 好像太高了，你的功率只有20w.气压太高会使膜沉积速度特别慢，甚至没有。我用的设备是这样的。0.5pa的压力可能会好一些。
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2楼2009-01-08 15:08:37
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wan213

银虫 (初入文坛)
多谢楼上的解答,我回去试试看
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3楼2009-01-08 18:42:51
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ljmeng

木虫 (正式写手)
★
洛阳学子(金币+1,VIP+0):多谢交流 5-1 00:18
二楼的回答很正确，气压高会导致溅射速率的下降。对于一台新的机器，或者是一种新的材料，需要很长时间去摸索的。这个摸索过程本身就是一个工作。
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4楼2009-01-10 04:16:30
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qxvacuum

银虫 (初入文坛)

RF磁控溅射氧化物

★
洛阳学子(金币+1,VIP+0):多谢交流 5-1 00:18
RF磁控溅射镀膜，靶启辉光后，能维持辉光，工作气体尽量少些，溅射速率和沉积速率高。
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5楼2009-04-29 23:31:24
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