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【求助】RF磁控溅射氧化物
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| 求助各位大虾,我们实验室用RF磁控溅射法向玻璃基片溅射Bi2O3靶材,总也溅射不上去,玻璃上几乎是透明的。而且溅射完毕后靶材上会出现一层黑色的物质,也不知道是什么。我们的控制条件大约是功率20,反溅射功率0.25,氩气气压5,自偏压20,温度室温到100。不知道哪个条件没控制好,还是黑色膜的问题,望这方面的牛人不吝赐教。。。 |
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2楼2009-01-08 15:08:37
3楼2009-01-08 18:42:51
ljmeng
木虫 (正式写手)
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4楼2009-01-10 04:16:30
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