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wan213

银虫 (初入文坛)

[交流] 【求助】RF磁控溅射氧化物

求助各位大虾,我们实验室用RF磁控溅射法向玻璃基片溅射Bi2O3靶材,总也溅射不上去,玻璃上几乎是透明的。而且溅射完毕后靶材上会出现一层黑色的物质,也不知道是什么。我们的控制条件大约是功率20,反溅射功率0.25,氩气气压5,自偏压20,温度室温到100。不知道哪个条件没控制好,还是黑色膜的问题,望这方面的牛人不吝赐教。。。
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ranon

金虫 (正式写手)


洛阳学子(金币+1,VIP+0):多谢交流 5-1 00:18
你的气压5,是5pa,还是5torr. 如果是5pa, 好像太高了,你的功率只有20w.气压太高会使膜沉积速度特别慢,甚至没有。我用的设备是这样的。0.5pa的压力可能会好一些。
2楼2009-01-08 15:08:37
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wan213

银虫 (初入文坛)

多谢楼上的解答,我回去试试看
3楼2009-01-08 18:42:51
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ljmeng

木虫 (正式写手)


洛阳学子(金币+1,VIP+0):多谢交流 5-1 00:18
二楼的回答很正确,气压高会导致溅射速率的下降。对于一台新的机器,或者是一种新的材料,需要很长时间去摸索的。这个摸索过程本身就是一个工作。
4楼2009-01-10 04:16:30
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qxvacuum

银虫 (初入文坛)

RF磁控溅射氧化物


洛阳学子(金币+1,VIP+0):多谢交流 5-1 00:18
RF磁控溅射镀膜,靶启辉光后,能维持辉光,工作气体尽量少些,溅射速率和沉积速率高。
5楼2009-04-29 23:31:24
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