| 查看: 284 | 回复: 3 | ||
| 当前主题已经存档。 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[交流]
【求助】RF磁控溅射氧化物
|
||
| 求助各位大虾，我们实验室用RF磁控溅射法向玻璃基片溅射Bi2O3靶材，总也溅射不上去，玻璃上几乎是透明的。而且溅射完毕后靶材上会出现一层黑色的物质，也不知道是什么。我们的控制条件大约是功率20，反溅射功率0.25，氩气气压5，自偏压20，温度室温到100。不知道哪个条件没控制好，还是黑色膜的问题，望这方面的牛人不吝赐教。。。 |
回复此楼
3楼2009-01-08 18:43:48
chenfire
木虫 (著名写手)
- 应助: 3 (幼儿园)
- 贵宾: 0.03
- 金币: 4045.1
- 散金: 210
- 红花: 163
- 帖子: 1377
- 在线: 97.5小时
- 虫号: 592069
- 注册: 2008-09-03
- 专业: 无机非金属类光电信息与功
2楼2009-01-08 11:29:00
