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【求助】RF磁控溅射氧化物
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| 求助各位大虾，我们实验室用RF磁控溅射法向玻璃基片溅射Bi2O3靶材，总也溅射不上去，玻璃上几乎是透明的。而且溅射完毕后靶材上会出现一层黑色的物质，也不知道是什么。我们的控制条件大约是功率20，反溅射功率0.25，氩气气压5，自偏压20，温度室温到100。不知道哪个条件没控制好，还是黑色膜的问题，望这方面的牛人不吝赐教。。。 |
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