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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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wan213

银虫 (初入文坛)

[交流] 【求助】RF磁控溅射氧化物

求助各位大虾,我们实验室用RF磁控溅射法向玻璃基片溅射Bi2O3靶材,总也溅射不上去,玻璃上几乎是透明的。而且溅射完毕后靶材上会出现一层黑色的物质,也不知道是什么。我们的控制条件大约是功率20,反溅射功率0.25,氩气气压5,自偏压20,温度室温到100。不知道哪个条件没控制好,还是黑色膜的问题,望这方面的牛人不吝赐教。。。
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chenfire

木虫 (著名写手)


memser(金币+1,VIP+0):3X!
氧化铋我没溅射过,不过金属氧化物需要比较高的溅射功率,否则虽然看起来起辉了,但是基片上打不上东西。20W的功率对于金属氧化物来说,我认为还是太小了。
非淡泊无以明志,非宁静无以致远
2楼2009-01-08 11:29:00
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wan213

银虫 (初入文坛)

多谢楼上的解答,我回去试试看
3楼2009-01-08 18:43:48
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bluesky238

木虫 (正式写手)

wdwsnnu(金币+0,VIP+0):3x,谢谢讨论
功率太小
4楼2009-01-09 11:05:08
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