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为我中华321

超级版主

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[求助] 缺陷石墨烯的XPS分峰问题，主要是O1s，去除氧化硅的污染

A4.2W为缺陷石墨烯。全谱当中测得有氧化硅的污染，我的方法是对O1s分出所有峰，找出氧化硅的峰，然后在总体的O1s中减除该峰，得到最终的结果。但是审稿人不满意我的分峰结果。哪位专业人士可以帮帮忙分析一下，给一些建议，谢谢！
审稿人的意见：Thank you for submitting your revised manuscript. Unfortunately, I'm afraid I do not agree with the peak fitting you show in the O 1s narrow scan you added to the manuscript. Can you take another look at this? Please also carefully check the peak fitting in the C 1s spectrum you added.

缺陷石墨烯的XPS分峰问题，主要是O1s，去除氧化硅的污染
GJ28GFBJ5YNLYC5RQ8PJJNV.jpg


缺陷石墨烯的XPS分峰问题，主要是O1s，去除氧化硅的污染-1
全谱.png


缺陷石墨烯的XPS分峰问题，主要是O1s，去除氧化硅的污染-2
O1s.png


缺陷石墨烯的XPS分峰问题，主要是O1s，去除氧化硅的污染-3
Si2p.png
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1楼 2017-04-22 23:41:14
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hxju

主管区长

优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！
审稿人是对的，你的解谱有问题。“在总体的O1s中减除该峰”，这是非常严重的问题，可以判断弄虚做假。如果有污染，把SiO的信号注明在里面就可以了，切不可以私自删掉。另外，解谱的参数不是随意选用的，例如O 1s中，O物种的半高宽应该类似才对，不是有的是0.96，有的是2.5，这是及其不合理的。

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2楼2017-04-23 14:49:03
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飒飒摩耶

实习版主

优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！优秀！！有木有！！！
前辈，文章发出来了吗？可否拜读一下
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3楼2018-05-28 18:32:54
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