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请问哪里有实验条件可做基于液体硅源(如TEOS)的SiO2 CVD 已有6人参与
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| 请问各位大侠,哪里有实验条件可以做基于液体硅源(如TEOS)的CVD?我想通过基于TEOS的CVD或PECVD来长一层1微米的SiO2薄膜,要保证较好的step coverage,侧壁长厚一点,这样才有可能达到填充沟槽(fill gap)的效果。谢谢大家! |
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zhanglang51
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