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请问哪里有实验条件可做基于液体硅源（如TEOS）的SiO2 CVD 已有6人参与
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| 请问各位大侠，哪里有实验条件可以做基于液体硅源（如TEOS）的CVD？我想通过基于TEOS的CVD或PECVD来长一层1微米的SiO2薄膜，要保证较好的step coverage，侧壁长厚一点，这样才有可能达到填充沟槽（fill gap）的效果。谢谢大家！ |
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5楼2020-03-27 13:50:27
zhanglang51 
木虫 (正式写手)
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2楼2020-03-20 00:17:17
babyoflion
金虫 (著名写手)
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3楼2020-03-20 08:02:15
4楼2020-03-26 20:07:45
