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微纳加工图案线条宽度不均匀 已有2人参与
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我制作的2um的长条电极出现了电极宽度不均匀的现象，这是光刻时间问题还是显影的问题？我在苏州纳米所做的，光刻机MA6-1，光刻胶ZA5214，曝光时间6s，显影时间45s。 图片1.jpg |
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【答案】应助回帖
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感谢参与，应助指数 +1
dwx4062: 金币+5, ★★★★★最佳答案, 谢谢，按照你的建议，我仔细观察了光刻板，果然是光刻板的图案宽度不均匀。 2017-04-18 13:13:59
感谢参与，应助指数 +1
dwx4062: 金币+5, ★★★★★最佳答案, 谢谢，按照你的建议，我仔细观察了光刻板，果然是光刻板的图案宽度不均匀。 2017-04-18 13:13:59
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从图形上看，刚好是光刻版的场拼接的地方，线条宽度突然变小。应该是光刻版的问题。 你再观察一下光刻版，看看是不是在某个地方突然变窄。 像你这么小的线条，制版的时候要注意，不仅仅要写明最小的线宽，还要要求一下线宽的精度。你可以问问研材微纳这边制版的技术人员，一般的话，对应的线宽和精度不一样，价格也不一样，你可以直接发邮件咨询一下。 另外，2um的线条，我们建议用stepper做比较保险。尤其是高密度长线条。 还有一种可能是光刻胶厚度上有台阶，不过这种几率非常小。 |
4楼2017-04-17 17:48:10
2楼2017-04-17 16:04:57
3楼2017-04-17 16:10:15
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本帖内容被屏蔽 |
5楼2017-04-17 18:18:47