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dwx4062

新虫 (初入文坛)

[求助] 微纳加工图案线条宽度不均匀 已有2人参与

我制作的2um的长条电极出现了电极宽度不均匀的现象,这是光刻时间问题还是显影的问题?我在苏州纳米所做的,光刻机MA6-1,光刻胶ZA5214,曝光时间6s,显影时间45s。

微纳加工图案线条宽度不均匀
图片1.jpg
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dezhuli

金虫 (小有名气)

博士


2楼2017-04-17 16:04:57
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dwx4062

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by dezhuli at 2017-04-17 16:04:57
光刻版问题吧

光刻板图案没有这个现象。
3楼2017-04-17 16:10:15
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
dwx4062: 金币+5, ★★★★★最佳答案, 谢谢,按照你的建议,我仔细观察了光刻板,果然是光刻板的图案宽度不均匀。 2017-04-18 13:13:59
从图形上看,刚好是光刻版的场拼接的地方,线条宽度突然变小。应该是光刻版的问题。
你再观察一下光刻版,看看是不是在某个地方突然变窄。
像你这么小的线条,制版的时候要注意,不仅仅要写明最小的线宽,还要要求一下线宽的精度。你可以问问研材微纳这边制版的技术人员,一般的话,对应的线宽和精度不一样,价格也不一样,你可以直接发邮件咨询一下。
另外,2um的线条,我们建议用stepper做比较保险。尤其是高密度长线条。
还有一种可能是光刻胶厚度上有台阶,不过这种几率非常小。
4楼2017-04-17 17:48:10
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光刻电子

禁虫 (正式写手)

本帖内容被屏蔽

5楼2017-04-17 18:18:47
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babyoflion

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
如果确定光刻版没问题,如果是接触式曝光的话,有可能在顶上去的时候这个位置刚好是接触和非接触的边缘,然后就这样了
6楼2017-04-18 08:36:42
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京都冯药师

银虫 (小有名气)

这个可能也跟曝光的均一度有关的(contact没有做好;UV光源)。中间那块明显跟上下两块尺寸变窄。
7楼2017-04-19 06:46:30
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vincentwz

铁杆木虫 (著名写手)

不是掩膜版就是曝光时contact不均匀

发自小木虫Android客户端
8楼2017-04-19 07:21:27
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davidloo

禁虫 (职业作家)

本帖内容被屏蔽

9楼2017-04-19 16:30:51
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xuhaiming13

新虫 (初入文坛)

一般 板子没有问题的  应该是光刻胶的问题  ;涂布均一度;显影时就可以预测丫;
业精于勤
10楼2017-06-20 10:55:33
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