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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » Az5214 问题？？
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zwl9426

新虫 (初入文坛)

[求助] Az5214 问题？？ 已有3人参与

各为大神，请教个问题我用az5214做反转胶用，做的参数如下：旋涂光刻胶 1.2um左右，前烘 90度 2分钟；曝光6s（功率差不多50mj\cm2）；反转烘120度 2分钟10s；裸曝光16s；显影 35s，显影液用的正胶显影液。结果如下图，不知道为什么一个4寸片子上出现不同的结果，还有就是结果比我的掩膜版图形小一点，什么原因啊，在线等，谢谢了1

Az5214 问题？？
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Az5214 问题？？-1
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Az5214 问题？？-2
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Az5214 问题？？-3
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Az5214 问题？？-4
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1楼 2017-03-25 22:28:17
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Alice_rong

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
给你AZ5214的参数说明吧，里面有曝光、后烘以及泛曝光参数对结构的影响分析，希望能帮你解决问题
Az5214 问题？？-5



发自小木虫IOS客户端
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2楼2017-03-27 20:28:47
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zwl9426

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by Alice_rong at 2017-03-27 20:28:47
给你AZ5214的参数说明吧，里面有曝光、后烘以及泛曝光参数对结构的影响分析，希望能帮你解决问题

谢谢您啊，这个参数里面怎么没有曝光时间啊？感觉参数不全，有没有详细的，谢谢了！！！
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3楼2017-03-30 22:14:32
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yanqingzhi

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by zwl9426 at 2017-03-30 22:14:32
谢谢您啊，这个参数里面怎么没有曝光时间啊？感觉参数不全，有没有详细的，谢谢了！！！...

曝光时间的计算，是根据你所使用的曝光机的曝光功率计算的。上图给了你曝光剂量，如果你使用的是365~450nm波段的混合光，曝光时间=给定的曝光剂量÷365nm波长的功率÷2.5，你可以试试。
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4楼2018-09-21 16:30:31
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yanqingzhi

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

看你的片子，线条周边有毛刺，是不是掩膜版比较脏造成的，尤其是使用真空接触的时候，会对掩膜版造成很大的污染，建议你在放mask之前在高倍显微镜下仔细观察。另外，线条有颜色变化，像是mask与光刻胶之间因为不平整（或许有颗粒）从而产生了应力，使线条有了颜色变化。mask上面是否有颗粒，可以通过更换片子，再做同样的实验来验证你的猜测。
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5楼2018-09-21 16:35:39
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逐步成长

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

毛刺太多，感觉应该是光刻版不干净，图形小，应该是参数没调对，正常5214胶，4000r/30s，95°/90s，曝光6s，后烘110°/90s，泛曝42s-45s，然后显影
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6楼2020-11-17 16:12:24
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nononorain

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by Alice_rong at 2017-03-27 20:28:47
给你AZ5214的参数说明吧，里面有曝光、后烘以及泛曝光参数对结构的影响分析，希望能帮你解决问题

请问有完整PDF吗?求
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7楼2021-03-28 20:48:16
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苍山造纸农

新虫 (初入文坛)
First EXP 时间太长了 3s就可以，静置10min再反转烘烤，显影液用TMAH不要AZ400K

发自小木虫Android客户端
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8楼2021-11-03 13:17:29
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