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zwl9426

新虫 (初入文坛)

[求助] Az5214 问题?? 已有3人参与

各为大神,请教个问题我用az5214做反转胶用,做的参数如下:旋涂光刻胶 1.2um左右,前烘 90度 2分钟;曝光6s(功率差不多50mj\cm2);反转烘120度 2分钟10s;裸曝光16s;显影 35s,显影液用的正胶显影液。结果如下图,不知道为什么一个4寸片子上出现不同的结果,还有就是结果比我的掩膜版图形小一点,什么原因啊,在线等,谢谢了1

Az5214 问题??
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Az5214 问题??-1
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Az5214 问题??-3
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Az5214 问题??-4
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Alice_rong

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
给你AZ5214的参数说明吧,里面有曝光、后烘以及泛曝光参数对结构的影响分析,希望能帮你解决问题
Az5214 问题??-5



发自小木虫IOS客户端
2楼2017-03-27 20:28:47
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zwl9426

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by Alice_rong at 2017-03-27 20:28:47
给你AZ5214的参数说明吧,里面有曝光、后烘以及泛曝光参数对结构的影响分析,希望能帮你解决问题

谢谢您啊,这个参数里面怎么没有曝光时间啊?感觉参数不全,有没有详细的,谢谢了!!!
3楼2017-03-30 22:14:32
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yanqingzhi

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
3楼: Originally posted by zwl9426 at 2017-03-30 22:14:32
谢谢您啊,这个参数里面怎么没有曝光时间啊?感觉参数不全,有没有详细的,谢谢了!!!...

曝光时间的计算,是根据你所使用的曝光机的曝光功率计算的。上图给了你曝光剂量,如果你使用的是365~450nm波段的混合光,曝光时间=给定的曝光剂量÷365nm波长的功率÷2.5,你可以试试。
4楼2018-09-21 16:30:31
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yanqingzhi

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

看你的片子,线条周边有毛刺,是不是掩膜版比较脏造成的,尤其是使用真空接触的时候,会对掩膜版造成很大的污染,建议你在放mask之前在高倍显微镜下仔细观察。另外,线条有颜色变化,像是mask与光刻胶之间因为不平整(或许有颗粒)从而产生了应力,使线条有了颜色变化。mask上面是否有颗粒,可以通过更换片子,再做同样的实验来验证你的猜测。
5楼2018-09-21 16:35:39
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逐步成长

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

毛刺太多,感觉应该是光刻版不干净,图形小,应该是参数没调对,正常5214胶,4000r/30s,95°/90s,曝光6s,后烘110°/90s,泛曝42s-45s,然后显影
6楼2020-11-17 16:12:24
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nononorain

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by Alice_rong at 2017-03-27 20:28:47
给你AZ5214的参数说明吧,里面有曝光、后烘以及泛曝光参数对结构的影响分析,希望能帮你解决问题

请问有完整PDF吗?求
7楼2021-03-28 20:48:16
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苍山造纸农

新虫 (初入文坛)

First EXP 时间太长了 3s就可以,静置10min再反转烘烤,显影液用TMAH不要AZ400K

发自小木虫Android客户端
8楼2021-11-03 13:17:29
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