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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 工艺技术 » 膜技术 » 关于ALD设备生长的膜层均匀性的问题
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qq563968250

新虫 (初入文坛)

[求助] 关于ALD设备生长的膜层均匀性的问题 已有1人参与

在硅片上在不同的托盘上放置三十几片硅片，然后将载有硅片的托盘放置在工艺腔中生长Al2O3薄膜，如何计算片内均匀性（公式），板（托盘）内均匀性和板（托盘）间均匀性，最好详细点，列出详细的公式，谢谢！
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湖北
1楼 2017-03-02 22:56:09
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all is well

新虫 (初入文坛)
★
明亮的眼眸: 金币+1, 感谢回复。 2017-05-15 14:48:48
我也刚刚在研究均匀性的问题，我是直接测厚度然后数据拟合

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2楼2017-04-16 23:57:08
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v_kichen

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
明亮的眼眸: 金币+1, 感谢回复。 2017-05-15 14:49:00
用椭偏仪测硅片或者托盘镀膜后的折射率，然后通过折射率计算膜层厚度，通过厚度来监测均匀性
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3楼2017-05-11 14:12:28
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v_kichen

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

但是我有个问题，这个镀膜质量的均匀性具体跟哪些因素有关啊
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4楼2017-05-11 14:13:08
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