| 查看: 1128 | 回复: 3 | ||
[求助]
关于ALD设备生长的膜层均匀性的问题 已有1人参与
|
在硅片上在不同的托盘上放置三十几片硅片，然后将载有硅片的托盘放置在工艺腔中生长Al2O3薄膜，如何计算片内均匀性（公式），板（托盘）内均匀性和板（托盘）间均匀性，最好详细点，列出 详细的公式，谢谢！ |
回复此楼» 猜你喜欢
锂电池正极材料前驱体法制备正极材料
已经有2人回复
-
深圳理工大学-湖南大学招收电化学方向联培博士生1名
已经有2人回复
-
高分子科学论文润色/翻译怎么收费?
已经有53人回复
-
树脂真空干燥除水时的泡沫问题
已经有24人回复
-
聚酯多元醇成分分析
已经有3人回复
-
津工业大学郑柳春教授团队招高分子化学和化学化工方向的博士生
已经有0人回复
-
交流｜5% SP/NMP 导电浆料预分散经验（钠电 / 锂电用）
已经有1人回复
-
哈尔滨工业大学（深圳）——急招能动/材料/机械——26年9月份博士
已经有13人回复
-
2026储能方向博士
已经有3人回复
-
天津工业大学郑柳春教授团队招有机合成方向的博士生
已经有0人回复
all is well
新虫 (初入文坛)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 60.5
- 帖子: 4
- 在线: 10.1小时
- 虫号: 4458283
- 注册: 2016-03-02
- 性别: MM
- 专业: 金属基复合材料
2楼2017-04-16 23:57:08
3楼2017-05-11 14:12:28
4楼2017-05-11 14:13:08