| 查看: 5645 | 回复: 11 | |||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||
192837465新虫 (小有名气)
|
[求助]
磁控溅射靶基距的调整 已有4人参与
|
||
|
在一本书上看见溅射过程中，靶基距和粒子的平均自由程有关，本底真空度会影响自由程的大小。所以靶基距也算是一个工艺参数。但是一般人们普遍更关心溅射功率啊，溅射压强啊，衬底加热温度等等，是不是靶基距这个参数和前面几个相比，不是那么敏感的一个参数？ 靶基距在薄膜的生长过程中，会在哪些方面产生影响？ 如果靶基距超过或者低于自由程，会使得薄膜产生什么变化？ 悉听各位朋友的见解，有任何想法都可以回复～ 谢谢各位朋友，向大家学习！ 发自小木虫IOS客户端 |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 薄膜材料和器件制备 |
» 猜你喜欢
谭编的ECbox电化学分析软件，请提供下载链接
已经有0人回复
-
有没有适合电极材料负极的3-4区期刊推荐，孩子要毕业，谢谢
已经有6人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有197人回复
-
TLC观测一些显色不灵敏化合物
已经有2人回复
-
RuFe
已经有0人回复
-
熔融降温一步法制备微晶玻璃
已经有7人回复
-
分子动力学玻璃模拟中成键问题
已经有0人回复
-
ecoflex 0030的分子式
已经有0人回复
-
南京工业大学古铮荣教授（国家级高层次人才）团队招聘博士后和青年教师
已经有0人回复
-
南京工业大学古铮荣教授（国家级高层次人才）团队招聘博士后和青年教师
已经有0人回复
-
南京工业大学古铮荣教授（国家级高层次人才）团队招聘博士后和青年教师
已经有1人回复
192837465
新虫 (小有名气)
- 应助: 2 (幼儿园)
- 金币: 2228.7
- 散金: 61
- 红花: 2
- 帖子: 157
- 在线: 98.9小时
- 虫号: 3651786
- 注册: 2015-01-18
- 专业: 功能陶瓷
9楼2017-01-07 14:54:31
hs_77
木虫 (正式写手)
- 应助: 117 (高中生)
- 金币: 1786.3
- 散金: 79
- 红花: 20
- 帖子: 604
- 在线: 200.1小时
- 虫号: 3657273
- 注册: 2015-01-21
- 性别: GG
- 专业: 金属功能材料
2楼2017-01-06 08:53:23
3楼2017-01-06 14:45:27
【答案】应助回帖
感谢参与，应助指数 +1
|
1平均自由程与压强有关 与靶基距无关。 2.靶基距对薄膜沉积速率影响很大，应该是二次方的反比关系。 3.靶基距大于或小于平均自由程的影响。平均自由程可以理解为溅射出的粒子到达基片前与其他粒子碰撞的概率。靶基距越小，碰撞概率越小，被溅射出的粒子到达基片时能量越高。在基片上的活动(如迁移)更剧烈。 4.靶基距越大，膜厚越均匀。 5.一些常见的靶基距参数，小型磁控溅射镀膜机5-8cm，中型8-12cm，大型如镀膜玻璃生产线20-30cm。 发自小木虫Android客户端 |
4楼2017-01-06 20:32:07