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192837465新虫 (小有名气)
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[求助]
磁控溅射靶基距的调整已有4人参与
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在一本书上看见溅射过程中，靶基距和粒子的平均自由程有关，本底真空度会影响自由程的大小。所以靶基距也算是一个工艺参数。但是一般人们普遍更关心溅射功率啊，溅射压强啊，衬底加热温度等等，是不是靶基距这个参数和前面几个相比，不是那么敏感的一个参数？ 靶基距在薄膜的生长过程中，会在哪些方面产生影响？ 如果靶基距超过或者低于自由程，会使得薄膜产生什么变化？ 悉听各位朋友的见解，有任何想法都可以回复～ 谢谢各位朋友，向大家学习！ 发自小木虫IOS客户端 |
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 薄膜材料和器件制备 |
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