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[交流]
关于二氧化硅的一些感受
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各位老司机，我做了快半年的二氧化硅改性、合成，发现了其中有许多“猫腻” 1.关于二氧化硅的改性有很多，常见的有kh-550、kh-560、kh-570，但其实他们的改性接枝率很低，就我查到的大多数文献其接枝率最多做到3%左右，也就是说如果你想通过kh系列改性剂“搭桥”去合成的话，效果并没有那么好，举个例子1g Sio2其中接枝的仅有0.03g，如果你的反应体系里有一点杂质，那么抱歉，你一定做不出来。 2.关于二氧化硅的红外，大家看二氧化硅有没有改性好都是通过3000-2900cm-1的甲基和亚甲基峰位去判断，再者是通过3200左右的羟基峰位的减少去判断，而不是根据一些官能团去判断，举个例子：用kh560去处理二氧化硅，做红外，发现他的913cm-1的环氧峰位根本不出现，但为了使自己的论文合理，大家就只说看到了甲基和亚甲基峰而不说没看到环氧峰位。 3.虽然接枝率低但并不代表其减少团聚效果差，如果只是为了分散性的提高，用kh系列改性完全足够。 （PS：我说的二氧化硅是指直接购买的，对于用TEOS合成的，我会在以后实验后进行补充，当然我猜我一定有错误的地方，希望大家指正）  |
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dsy664285570(金币+1): 谢谢参与
dsy664285570(金币+1): 谢谢参与
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1.关于二氧化硅的改性有很多，常见的有kh-550、kh-560、kh-570，但其实他们的改性接枝率很低，就我查到的大多数文献其接枝率最多做到3%左右，也就是说如果你想通过kh系列改性剂“搭桥”去合成的话，效果并没有那么好，举个例子1g Sio2其中接枝的仅有0.03g，如果你的反应体系里有一点杂质，那么抱歉，你一定做不出来。 2.关于二氧化硅的红外，大家看二氧化硅有没有改性好都是通过3000-2900cm-1的甲基和亚甲基峰位去判断，再者是通过3200左右的羟基峰位的减少去判断，而不是根据一些官能团去判断，举个例子：用kh560去处理二氧化硅，做红外，发现他的913cm-1的环氧峰位根本不出现，但为了使自己的论文合理，大家就只说看到了甲基和亚甲基峰而不说没看到环氧峰位  |
14楼2016-11-24 15:42:09
简单回复
2016-11-24 14:50
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吸血人狼城6楼
2016-11-24 14:56
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2016-11-24 15:01
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dsy664285570(金币+1): 谢谢参与
祝福宝。 发自小木虫Android客户端
夏侯轻衣13楼
2016-11-24 15:38
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dsy664285570(金币+1): 谢谢参与
lu 发自小木虫IOS客户端