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basanwuyu银虫 (小有名气)
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【求助】去除损伤层？
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在多晶硅提纯中，用CP4溶液去除损伤层，是用这个混合溶液与损伤处（指与杂质发生反应？1另外：损伤？是如何理解？2）发生反应，那我在想没损伤的地方也要跟着一起反应呀？那这个酸洗究竟是为什么？ 请指教！ [ Last edited by ddx-k on 2008-12-4 at 15:07 ] |
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顶下 4楼2008-12-17 10:26:54
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