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basanwuyu银虫 (小有名气)
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【求助】去除损伤层?
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在多晶硅提纯中,用CP4溶液去除损伤层,是用这个混合溶液与损伤处(指与杂质发生反应?1另外:损伤?是如何理解?2)发生反应,那我在想没损伤的地方也要跟着一起反应呀?那这个酸洗究竟是为什么? 请指教! [ Last edited by ddx-k on 2008-12-4 at 15:07 ] |
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basanwuyu
银虫 (小有名气)
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zwq955
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