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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料其他 » 射频磁控溅射镀sio2相关问题
北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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我是小混子

铁虫 (初入文坛)

[求助] 射频磁控溅射镀sio2相关问题 已有1人参与

sio2还没镀过，打算近期开始做，有几个疑问。    1.打算用的参数功率用110w，氩气1pa，靶基距固定是10cm，不知道功率参数选的是否合理，个人感觉不同设备参数会有所区别                                                            2.关心三点问题，一能否沉积，二镀两三个小时会不会容易出现裂靶情况，三沉积速率会达到多少呢？                                                                           新手请大家多多指教，谢谢！

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1楼 2016-11-04 10:19:01
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Friend007

银虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
我是小混子: 金币+3, ★★★很有帮助 2017-05-07 00:55:26
1.参数设置可以，肯定能镀上，最佳参数需要摸索。2.靶材是sio2靶材？很有可能会裂。

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2楼2016-11-10 07:13:15
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欧姆007

金虫 (小有名气)
功率应该没有太大问题 有点担心这个时间

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3楼2016-11-26 23:28:12
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