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强哥哥哥

新虫 (著名写手)

[求助] 光刻显影不干净什么原因?已有4人参与

用的是AZ-5214E反转光刻胶,但是在显影的时候有胶残余,甚至一直在显影夜液中放两个小时,最后还是不干净。在PZT,PIMNT单晶上面甩的胶,表面不是很平整。改怎么改进实验?

@yswyx 发自小木虫Android客户端
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Adrean

金虫 (小有名气)

钻虫

胶大概多厚?曝光剂量?
千里之行始于足下
21楼2016-11-30 21:32:40
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查看全部 24 个回答

fdnh

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
以下观点仅供参考:
1.先确定光刻胶与显影液的匹配程度,即显影效果如何,是否在有效期等;
2.你在PZT,PIMNT单晶上匀胶时表面不平会造成光刻胶在基板上薄厚不一,这会对光刻过程产生影响;
3.不知道你是否需要在匀胶之后烘烤去除光刻胶里的溶剂,这样不平整也会有影响。
总之,你应该先把匀胶弄平整,再开展后续实验比较可靠一些。

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2楼2016-10-19 15:49:17
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强哥哥哥

新虫 (著名写手)

送红花一朵
引用回帖:
2楼: Originally posted by fdnh at 2016-10-19 15:49:17
以下观点仅供参考:
1.先确定光刻胶与显影液的匹配程度,即显影效果如何,是否在有效期等;
2.你在PZT,PIMNT单晶上匀胶时表面不平会造成光刻胶在基板上薄厚不一,这会对光刻过程产生影响;
3.不知道你是否需要在 ...

胶和显影液的匹配,过期,不存在问题。现在问题就是显影不干净,有些不管多长时间都显影不干净,主要想问这样的地方是什么原因造成的,

发自小木虫Android客户端
3楼2016-10-19 18:16:29
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exciting73

金虫 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
预烘和反转烘胶温度和时间各是多少?分别减少一些试试。
4楼2016-10-19 22:31:37
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