| 查看: 838 | 回复: 10 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
求助氮化硅掩膜(有露出部分硅片开口)的热氧化 已有2人参与
|
||
|
在硅基底上生长了氮化硅掩膜，用光刻胶保护在浓磷酸中刻蚀出了开口，然后放入到高温炉中热氧化(1100摄氏度干氧2小时)，拿出来后想去掉剩下的氮化硅，发现浓磷酸去不掉氮化硅了。。是因为氮化硅被氧化了么？ @yswyx @dut_ameng 发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
请问对标matlab的开源软件octave的网站https://octave.org为什么打不开？
已经有1人回复
-
求助两种BiOBr晶体的CIF文件（卡片号为JCPDS 09-0393与JCPDS 01-1004 ）
已经有0人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有273人回复
-
哈尔滨工程大学材化学院国家级青年人才-26年硕士招生
已经有0人回复
-
求助Fe-TCPP、Zn-TCPP的CIF文件，或者CCDC号
已经有0人回复
-
河北大学-招收26年秋季入化学博士1名
已经有0人回复
-
XPS/?λXPS
已经有0人回复
-
河北大学-招收化学博士1名
已经有0人回复
8楼2016-10-19 12:03:48
2楼2016-10-17 21:48:17
3楼2016-10-17 21:48:30
4楼2016-10-18 10:08:30