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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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andrew82chen

新虫

[交流] 【请教】请教氮化硅减反射层

工艺:PECVD,印刷银浆后,再烧结
请问高人,氮化硅烧结前是否多孔结构,烧结后致密?有没有文献推荐一下,谢谢!

[ Last edited by ddx-k on 2008-12-4 at 15:13 ]
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Sahnrain

主管区长

优秀!!有木有!!!优秀!!有木有!!!优秀!!有木有!!!优秀!!有木有!!!

SiNx膜的主要作用是减反射和钝化作用,膜本身必须到达两个要求,一是致密,而是均匀,折射率一般在2.0左右,目前最主要的两种镀膜设备是管式PECVD和平板PECVD,管式工艺膜的致密性要好于平板的,但平板的均匀性要好于管式的,国内管式为主。Suntech就是管式工艺。
10楼2009-05-09 18:09:54
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ddx-k

无虫

骑士II

★ ★
zt970831(金币+2):感谢您的交流 1-30 21:56
一般都很致密,因为致密的膜折射率高,减反射效果好,其实烧结的时候银浆会透过膜与硅接触。
2楼2008-12-04 08:54:32
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stardom427

兑换贵宾

优秀!!有木有!!!优秀!!有木有!!!优秀!!有木有!!!优秀!!有木有!!!

★ ★
ddx-k(金币+0,VIP+0):看你写的专业是玻璃,但是你好像对电池工艺很熟悉啊。高手!
ddx-k(金币+2,VIP+0):回答很正确,里面涉及到共熔点的问题。
是致密层。。。。
烧结时,银浆中的玻璃粉会熔融,然后会高温腐蚀氮化硅,从而与硅片形成良好的欧姆接触。
3楼2008-12-04 09:28:50
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comeon213

主管区长

优秀!!有木有!!!优秀!!有木有!!!优秀!!有木有!!!优秀!!有木有!!!

问一下一楼:折射率不是接近2最好么?难道越高越好?
二楼的帮助很大,谢谢啊
4楼2009-01-30 11:45:39
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