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[求助]
求助介孔二氧化硅合成步骤有没有问题
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| 小弟做介孔二氧化硅负载DOX，新手。使用的步骤是0.5gCTAB，240ml水，1.75ml 2M强氧化钠。先200r左右使体系缓慢升温到80℃，然后再此温度下600r搅拌30分钟。随后以约0.33ml/min的速度加入TEOS 2.5ml。保持温度转速反应2小时，真空干燥后用研砵研磨成粉体，去除CTAB使用的方法是乙醇和硝酸铵体系。最终产物做XRD的时候发现扣掉背景没有衍射峰出现。同样的步骤我做过两次，两个样品都是一样的结果。想请教一下做过的前辈们，我使用的方法是不是有问题啊。才申请的账号，真的没多少金币，还望见谅。@dut_ameng |
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6楼2016-12-01 17:32:36
鸟蛋哥
铜虫 (初入文坛)
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2楼2016-11-11 16:41:23
3楼2016-11-11 16:58:48
4楼2016-11-17 15:50:46
