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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术交流 » 求助介孔二氧化硅合成步骤有没有问题
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CeuiSora

新虫 (初入文坛)

[求助] 求助介孔二氧化硅合成步骤有没有问题

小弟做介孔二氧化硅负载DOX，新手。使用的步骤是0.5gCTAB，240ml水，1.75ml 2M强氧化钠。先200r左右使体系缓慢升温到80℃，然后再此温度下600r搅拌30分钟。随后以约0.33ml/min的速度加入TEOS 2.5ml。保持温度转速反应2小时，真空干燥后用研砵研磨成粉体，去除CTAB使用的方法是乙醇和硝酸铵体系。最终产物做XRD的时候发现扣掉背景没有衍射峰出现。同样的步骤我做过两次，两个样品都是一样的结果。想请教一下做过的前辈们，我使用的方法是不是有问题啊。才申请的账号，真的没多少金币，还望见谅。@dut_ameng
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苦逼菜鸟祈祷中
1楼 2016-10-13 14:19:40
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鸟蛋哥

铜虫 (初入文坛)
我没有做XRD，我做过TEM，BET。MSN含有介孔。我也做MSN包埋DOX，希望能够相互学习.
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2楼2016-11-11 16:41:23
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小研渣

新虫 (小有名气)
这个做出来应该是非晶的吧

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3楼2016-11-11 16:58:48
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刘晓F

新虫 (小有名气)
请问你研磨后的粉末是怎么样的？我离心干燥后 把沉淀放在研钵里研磨，研磨后粉末薄薄地一层粘附在壁上，用勺子刮下来后的粉末流动性很差。。。
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4楼2016-11-17 15:50:46
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zyj1992

铜虫 (小有名气)
这法可以除去所有模版剂？

发自小木虫IOS客户端
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我存在~~
5楼2016-11-18 23:03:59
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kadizhijia

金虫 (小有名气)
请问您现在做出来了吗？我的方法跟你一样，只是体系大小不同，现在出现了很严重的团聚问题，干燥后分散性太差，请问能否分享一下经验，谢谢
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6楼2016-12-01 17:32:36
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clearloveo

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
7楼2018-05-23 19:49:05
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