| 查看: 1820 | 回复: 6 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
求助介孔二氧化硅合成步骤有没有问题
|
||
| 小弟做介孔二氧化硅负载DOX，新手。使用的步骤是0.5gCTAB，240ml水，1.75ml 2M强氧化钠。先200r左右使体系缓慢升温到80℃，然后再此温度下600r搅拌30分钟。随后以约0.33ml/min的速度加入TEOS 2.5ml。保持温度转速反应2小时，真空干燥后用研砵研磨成粉体，去除CTAB使用的方法是乙醇和硝酸铵体系。最终产物做XRD的时候发现扣掉背景没有衍射峰出现。同样的步骤我做过两次，两个样品都是一样的结果。想请教一下做过的前辈们，我使用的方法是不是有问题啊。才申请的账号，真的没多少金币，还望见谅。@dut_ameng |
回复此楼» 猜你喜欢
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有164人回复
3楼2016-11-11 16:58:48