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直流磁控溅射Ni靶，起辉 已有1人参与
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| 起辉，工作真空度在45mTorr，大约5Pa，但是溅射40s之后发现在硅基片上没有镀上Ni是怎么回事儿啊？？ |
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kangye_1989
木虫 (著名写手)
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5楼2016-09-28 08:14:26
kangye_1989
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2楼2016-09-27 17:20:46
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应该是没有，所以我想着明天提高一下基底的高度，但是打其他金属都没事儿，为什么Ni会出现这个情况呢？因为磁性么？还有挡板上打到了，但是呈现黑蓝色那种，是不是氧化了？您做的时候工作真空度和溅射电流分别是多少呢？ 发自小木虫IOS客户端 |
3楼2016-09-27 20:29:46
4楼2016-09-28 07:05:47