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boyshen至尊木虫 (正式写手)
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[求助]
各种CVD方法的原理及应用{截止11月24日}
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| 请教各种CVD方法的原理，最好细化分类，如热丝CVD，PEcvd，低温CVD，超真空CVD等方法的大致原理，尽量介绍些比较新的CVD方法的原理和应用。可以给相关网址，书籍链接，PPT等都可以，谢谢 |
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shichunyan82
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boyshen(金币+1,VIP+0):你觉得资料是不是太9了
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http://article.sichinamag.com/2003-8/2006112143045e0338.htm http://zh.wikipedia.org/wiki/%E5 ... 8%E6%B2%89%E7%A7%AF |
3楼2008-11-23 10:52:23
shichunyan82
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定义 化学气相沉积(Chemical vapor deposition，简称CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应，生成固态物质沉积在加热的固态基体表面，进而制得固体材料的工艺技术。它本质上属于原子范畴的气态传质过程。与之相对的是物理气相沉积（PVD）。 [编辑本段]应用 现代科学和技术需要使用大量功能各异的无机新材料，这些功能材料必须是高纯的，或者是在高纯材料中有意地掺人某种杂质形成的掺杂材料。但是，我们过去所熟悉的许多制备方法如高温熔炼、水溶液中沉淀和结晶等往往难以满足这些要求，也难以保证得到高纯度的产品。因此，无机新材料的合成就成为现代材料科学中的主要课题。 化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态天机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物，而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。目前，化学气相淀积已成为无机合成化学的一个新领域 |
2楼2008-11-23 10:50:09
4楼2008-11-23 12:50:26
