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memser

[交流] 审稿人说我一个英语表达语法错误,麻烦帮我看下,谢谢

××× result in an increasing film deposition rate (38.70 to 59.75 nm/min)
说这个句子后面“38.70 to 59.75 nm/min”语法表达有误。请问下是不是要改为“film deposition rate (38.70 ~59.75 nm/min)”,还是其它表达?

同时又说文中其它多处如此。难道我下面的这个句子也有问题吗?
the deposition rate of the film increases from 38.70 to 40.00 nm/min。
改为“××increases from 38.70 nm/min to 40.00 nm/min“?还是这个本身是对的呢?
是否表示一个范围只要在后面加上单位中间用~连接就可以,而在句子中用from--to-的话,则前后都要加单位?
急待修改,请高手指点一下,谢谢:)

[ Last edited by memser on 2008-11-16 at 10:13 ]
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raindrop8316

金虫 (正式写手)

★ ★
memser(金币+2,VIP+0): 10-11 09:30
“~”是中文中用的,英文中用“-”
书到用时方恨少 钱到月底不够花
4楼2008-11-17 16:25:12
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memser

以下是摘抄他人论文的一些句子,摘自于同一个文章中
While for LF mode the stress is in a wide range (between 320 and 450
MPa)

increased from 200OC to 250OC.

In this case, pressure is varied from 600-1000 mTorr

the high value of compressive stress induced in this layer (400-600 MPa)

Figure 5 and figure 6 showed the glass wet etching with amorphous silicon mask, etching for 100 and 150 μm, respectively

depositions highly compressive (usually 320-400 MPa, but also values grater then 500 MPa were achieved)
2楼2008-11-16 10:13:48
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阿莲9921

铜虫 (小有名气)

建议你找相同刊物的文章查看一下,或许不同期刊要求不同。个人认为你的表达也是合适的。
3楼2008-11-17 13:55:32
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memser

引用回帖:
Originally posted by raindrop8316 at 2008-11-17 16:25:
“~”是中文中用的,英文中用“-”

之前还真不知道呢,谢谢,谢谢,都改了:)
5楼2008-11-17 22:53:31
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