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hihxl1

木虫 (正式写手)

应助: 9 (幼儿园)
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注册: 2010-09-28
性别: GG
专业: 金属材料的微观结构

[求助] 射频磁控溅射薄膜成分问题已有1人参与

1. 基本描述：
靶材为MoS2、SiO2等非导电（导电能力弱）的靶材，直径100mm。射频溅射电源起辉，气压0.8Pa，功率300W。
溅射系统：前期采用单极脉冲磁控溅射时，靶材通过压环固定于阴极上，外部有一阳极罩。采用射频电源后将阳极罩去掉不用，直接以图1的方式起辉镀膜。
2. 问题描述及分析：
薄膜成分通过能谱仪测试后，发现薄膜除靶材元素外，一直能够检测到Fe、Cr等污染元素，分析是由于压环（不锈钢）溅射引起的。
如何避免来自压环的溅射，减小甚至消除污染元素来源？

图2 起辉照片.png

图1 射频溅射起辉时靶材的原始状态.jpg

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新年里我要好好努力！创造新的辉煌！

1楼 2016-07-19 15:48:14

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

东东那个东

金虫 (正式写手)

应助: 44 (小学生)
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帖子: 500
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虫号: 3683922
注册: 2015-02-10
性别: GG
专业: 金属材料表面科学与工程

【答案】应助回帖

引用回帖:

19楼: Originally posted by 寄居灰 at 2016-07-22 08:14:11
不用固定，正常放着就行
...

不上压环会使靶材和阴极接触产生间隙，导致起辉不正常的，虽然压环会有元素污染靶材，但是那只是很少的，靶头的防护一般有两个作用
1、充当阳极
2、阻挡压环以及靶头内其他部位产生的污染物，一般污染物都带有电子，会在防护罩上沉积，
你经常溅射可以看到，主要沉积粒子都是来自于靶材，如果自身靶材有问题那就肯定不行了，
1、靶材中毒
2、靶材碎裂，在碎裂间隙产生薄厚甚至间隙，会导致溅射下来的薄膜上存在其他元素