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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 综合其它 » 【求助】磁控溅射镀膜的均匀性
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jjli

木虫 (小有名气)

[交流] 【求助】磁控溅射镀膜的均匀性

求助：为什么最近用磁控溅射沉积的陶瓷薄膜不均匀，肉眼就能看见沉积出来的薄膜上有很明显的亮度不同的两片区域，一部分比较亮而另一部分比较暗，基体是高温合金，尺寸为10*10，单靶沉积，以前从来没有过，现在参数没变却这样实在不懂是怎么了，忘高手指教啊！

[ Last edited by SHY31 on 2008-11-10 at 12:10 ]
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1楼 2008-11-10 09:24:37
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xiaobo1255

木虫 (著名写手)
SHY31(金币+0,VIP+0):你们的IP怎么是一样的呢？
想问下楼上，那么要磁控溅射的基体应当如何清洗呢？抛光的话要跑到什么程度呢？最近做磁控溅射，在不锈钢基体上溅射MnCo合金，但其成膜性很差。镀上的膜都在试样中央裂开，卷起。是不是因为清洗的原因？靶和基体是静止正对的。
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3楼2008-11-10 11:43:01
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qiqifyc

木虫 (小有名气)
★
SHY31(金币+1,VIP+0):谢谢交流，欢迎常来
是不是基体处理的时候最后一道清洗是用的酒精或者丙酮呢？
如果是酒精或者丙酮等有机溶剂可能会在表面先聚集，然后再挥发掉，不免有些残留，可能对成膜有影响；
还有基体的运动方式，是静止在靶材前面，还是在靶材前旋转。如果静止在靶材前面的一个位置，就很有可能造成不均匀性。
个人愚见，共同探讨！
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2楼2008-11-10 11:14:05
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jjli

木虫 (小有名气)
十分感谢啊，可能是清洗的原因吧，因为最后用的是酒精，前面用的是去离子水。我觉得应该跟靶的位置没什么关系，因为以前也是同样的做法，虽然样品是静止的，但是面积很小，应该不会产生这么大的影响。另外跟楼上的交流一下，我的基体的清洗一般是丙酮，酒精，去离子水，每种三次。最后在空气中吹干，此时样品上没有水渍即可，听你说的好像是样品没洗干净的样子，但是不能每次都这么凑巧吧，溅射时没有加热吗？会不会跟冷却引起的应力有关，我也不太懂，呵呵，
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4楼2008-11-11 08:58:00
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qiqifyc

木虫 (小有名气)
★
jjli(金币+1,VIP+0):十分感谢 2-12 08:12
清洗得顺序应该是：
去污粉--甲苯--丙酮--无水乙醇--去离子水--在去离子水中进行超声清洗10-15min
然后要在红外线灯下烘烤一段时间

还有在溅射过程中最好加下温，一般两百度以上，基体在溅射过程中温度会有点升高，可能实际温度在三百左右。去除化学吸附和物理吸附的氧和水分，增加溅射过程中粒子的扩散。

还有就是样品最好围绕样品室中心做行星式运动，可以极大提高均匀性，但是成膜速率确降低得非常严重。
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5楼2008-11-12 13:32:51
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