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jjli

木虫 (小有名气)

[交流] 【求助】磁控溅射镀膜的均匀性

求助:为什么最近用磁控溅射沉积的陶瓷薄膜不均匀,肉眼就能看见沉积出来的薄膜上有很明显的亮度不同的两片区域,一部分比较亮而另一部分比较暗,基体是高温合金,尺寸为10*10,单靶沉积,以前从来没有过,现在参数没变却这样实在不懂是怎么了,忘高手指教啊!

[ Last edited by SHY31 on 2008-11-10 at 12:10 ]
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qiqifyc

木虫 (小有名气)


SHY31(金币+1,VIP+0):谢谢交流,欢迎常来
是不是基体处理的时候最后一道清洗是用的酒精或者丙酮呢?
如果是酒精或者丙酮等有机溶剂可能会在表面先聚集,然后再挥发掉,不免有些残留,可能对成膜有影响;
还有基体的运动方式,是静止在靶材前面,还是在靶材前旋转。如果静止在靶材前面的一个位置,就很有可能造成不均匀性。
个人愚见,共同探讨!
2楼2008-11-10 11:14:05
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xiaobo1255

木虫 (著名写手)

SHY31(金币+0,VIP+0):你们的IP怎么是一样的呢?
想问下楼上,那么要磁控溅射的基体应当如何清洗呢?抛光的话要跑到什么程度呢?最近做磁控溅射,在不锈钢基体上溅射MnCo合金,但其成膜性很差。镀上的膜都在试样中央裂开,卷起。是不是因为清洗的原因?靶和基体是静止正对的。
3楼2008-11-10 11:43:01
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jjli

木虫 (小有名气)

十分感谢啊,可能是清洗的原因吧,因为最后用的是酒精,前面用的是去离子水。我觉得应该跟靶的位置没什么关系,因为以前也是同样的做法,虽然样品是静止的,但是面积很小,应该不会产生这么大的影响。另外跟楼上的交流一下,我的基体的清洗一般是丙酮,酒精,去离子水,每种三次。最后在空气中吹干,此时样品上没有水渍即可,听你说的好像是样品没洗干净的样子,但是不能每次都这么凑巧吧,溅射时没有加热吗?会不会跟冷却引起的应力有关,我也不太懂,呵呵,
4楼2008-11-11 08:58:00
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qiqifyc

木虫 (小有名气)


jjli(金币+1,VIP+0):十分感谢 2-12 08:12
清洗得顺序应该是:
去污粉--甲苯--丙酮--无水乙醇--去离子水--在去离子水中进行超声清洗10-15min
然后要在红外线灯下烘烤一段时间

还有在溅射过程中最好加下温,一般两百度以上,基体在溅射过程中温度会有点升高,可能实际温度在三百左右。去除化学吸附和物理吸附的氧和水分,增加溅射过程中粒子的扩散。

还有就是样品最好围绕样品室中心做行星式运动,可以极大提高均匀性,但是成膜速率确降低得非常严重。
5楼2008-11-12 13:32:51
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