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用中频磁控溅射和石墨靶制备DLC，但是发现什么都没溅射出来 已有1人参与
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看一些文献这个方法应该是可行的，取的工艺参数也差不多，但是试了几次都发现没有成膜，镀膜机的腔体里面也基本没有溅射出来的物质 有没有前辈也遇到过类似问题的，可知道是什么原因，求解答 |
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 薄膜制备与特性 |
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