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拾肆洛希

铁虫 (初入文坛)

[求助] 用中频磁控溅射和石墨靶制备DLC,但是发现什么都没溅射出来 已有1人参与

看一些文献这个方法应该是可行的,取的工艺参数也差不多,但是试了几次都发现没有成膜,镀膜机的腔体里面也基本没有溅射出来的物质
有没有前辈也遇到过类似问题的,可知道是什么原因,求解答
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起名字真难诶

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

引用回帖:
6楼: Originally posted by 拾肆洛希 at 2016-09-19 15:17:04
30-60分钟,后来不开公转做,发现其实是有少量碳打出来了,但是非常少...

我都是做4个小时的

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7楼2016-09-30 09:47:21
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chinaworm

专家顾问 (知名作家)

肯定是功率不够,文献中的仪器参数因为设备不同可以有很大差异,没必要完全照抄照搬,你应该设计自己的实验条件,最后目的就是镀膜,控制厚度和致密度

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Tomorrow is tomorrow
2楼2016-07-05 21:27:58
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拾肆洛希

铁虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by chinaworm at 2016-07-05 21:27:58
肯定是功率不够,文献中的仪器参数因为设备不同可以有很大差异,没必要完全照抄照搬,你应该设计自己的实验条件,最后目的就是镀膜,控制厚度和致密度

功率因素我也考虑过,但是提高功率之后温度上升太快,而且也没有效果,目前尝试的功率已经达到8kw了
3楼2016-07-06 10:14:03
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beeingfly

新虫 (小有名气)

气体比例也要合适,功率,偏压,基板与靶材间距,磁场强度都要考虑

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4楼2016-07-07 23:15:27
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