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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 用中频磁控溅射和石墨靶制备DLC，但是发现什么都没溅射出来
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拾肆洛希

铁虫 (初入文坛)

[求助] 用中频磁控溅射和石墨靶制备DLC，但是发现什么都没溅射出来 已有1人参与

看一些文献这个方法应该是可行的，取的工艺参数也差不多，但是试了几次都发现没有成膜，镀膜机的腔体里面也基本没有溅射出来的物质
有没有前辈也遇到过类似问题的，可知道是什么原因，求解答
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1楼 2016-07-04 15:48:11
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起名字真难诶

新虫 (小有名气)
你溅射了多久啊？

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5楼2016-07-15 11:44:39
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chinaworm

专家顾问 (知名作家)
肯定是功率不够，文献中的仪器参数因为设备不同可以有很大差异，没必要完全照抄照搬，你应该设计自己的实验条件，最后目的就是镀膜，控制厚度和致密度

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Tomorrow is tomorrow
2楼2016-07-05 21:27:58
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拾肆洛希

铁虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by chinaworm at 2016-07-05 21:27:58
肯定是功率不够，文献中的仪器参数因为设备不同可以有很大差异，没必要完全照抄照搬，你应该设计自己的实验条件，最后目的就是镀膜，控制厚度和致密度

功率因素我也考虑过，但是提高功率之后温度上升太快，而且也没有效果，目前尝试的功率已经达到8kw了
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3楼2016-07-06 10:14:03
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beeingfly

新虫 (小有名气)
气体比例也要合适，功率，偏压，基板与靶材间距，磁场强度都要考虑

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4楼2016-07-07 23:15:27
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